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portada Design for Manufacturability with Advanced Lithography (en Inglés)
Formato
Libro Físico
Autor
Editorial
Idioma
Inglés
N° páginas
164
Encuadernación
Tapa Dura
Dimensiones
23.4 x 15.6 x 1.1 cm
Peso
0.43 kg.
ISBN13
9783319203843
Categorías

Design for Manufacturability with Advanced Lithography (en Inglés)

Bei Yu (Autor) · David Z. Pan (Autor) · Springer · Tapa Dura

Design for Manufacturability with Advanced Lithography (en Inglés) - Yu, Bei ; Pan, David Z.

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Reseña del libro "Design for Manufacturability with Advanced Lithography (en Inglés)"

This book introduces readers to the most advanced research results on Design for Manufacturability (DFM) with multiple patterning lithography (MPL) and electron beam lithography (EBL). The authors describe in detail a set of algorithms/methodologies to resolve issues in modern design for manufacturability problems with advanced lithography. Unlike books that discuss DFM from the product level or physical manufacturing level, this book describes DFM solutions from a circuit design level, such that most of the critical problems can be formulated and solved through combinatorial algorithms.

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