BookMonday - Hasta 50% de dto + envío rápido  Ver más

Enviar a
Montevideo, Montevideo
0

Mi Cuenta

  • argentina
  • chile
  • colombia
  • españa
  • méxico
  • perú
  • estados unidos
  • internacional

menú

Selecciona tu país

América

Europa

Resto del mundo

portada Processi microelettronici per la fabbricazione di VLSI (en Italiano)
Formato
Libro Físico
Autor
Editorial
Idioma
Italiano
N° páginas
228
Encuadernación
Tapa Blanda
Dimensiones
22.9 x 15.2 x 1.3 cm
Peso
0.34 kg.
ISBN13
9786206369745
Categorías

Processi microelettronici per la fabbricazione di VLSI (en Italiano)

Debasis Mukherjee (Autor) · Edizioni Sapienza · Tapa Blanda

Processi microelettronici per la fabbricazione di VLSI (en Italiano) - Mukherjee, Debasis

Libro Nuevo Importado
Envío: 21 a 26 días háb.
$ 6.477$ 3.886
-40%
Costos de importación incluídos en el precio ✅
Libro Nuevo

Quedan 10 unidades

$ 3.886
Llega entre el 21 Jul y el 28 Jul a Montevideo, Montevideo. Seleccionar ubicación

Elige la lista en la que quieres agregar tu producto o crea una nueva lista

Ir a Mis Listas
Calcula el costo de envío

Reseña del libro "Processi microelettronici per la fabbricazione di VLSI (en Italiano)"

"Micro-electronic Processes for VLSI Fabrication" è una guida completa e autorevole che approfondisce i principi fondamentali e le tecniche avanzate utilizzate nella fabbricazione di circuiti integrati su larghissima scala (VLSI). Coprendo un'ampia gamma di argomenti, il libro inizia con un'introduzione approfondita alla tecnologia dei semiconduttori al silicio, che comprende una panoramica dei materiali semiconduttori, della struttura cristallina del silicio, dei semiconduttori intrinseci ed estrinseci e delle complessità del drogaggio e della concentrazione dei portatori. I capitoli successivi approfondiscono gli aspetti cruciali della fabbricazione VLSI, esplorando le tecniche di lavorazione dei wafer, come la crescita, la preparazione, l'ispezione dei difetti e i vari metodi di pulizia dei wafer. Il processo critico dell'ossidazione viene trattato in dettaglio, spiegando le tecniche di ossidazione termica, a secco e a umido, insieme ai modelli di crescita dell'ossido. Il libro esamina ampiamente i metodi di deposizione epitassiale, tra cui la deposizione chimica da vapore (CVD), l'epitassia a fascio molecolare (MBE) e l'epitassia selettiva. Anche l'impianto e la diffusione di ioni, processi fondamentali per la fabbricazione di dispositivi a semiconduttore, sono discussi meticolosamente, con approfondimenti sui processi di impianto ionico.

Opiniones del libro

Ver más opiniones de clientes
  • 0% (0)
  • 0% (0)
  • 0% (0)
  • 0% (0)
  • 0% (0)

Preguntas frecuentes sobre el libro

¿El libro es original?

Todos los libros de nuestro catálogo son Originales.

¿En qué Idioma está escrito el libro?

El libro está escrito en Italiano.

¿Cuál es la encuadernación de este libro?

La encuadernación de esta edición es Tapa Blanda.

Preguntas y respuestas sobre el libro

¿Tienes una pregunta sobre el libro? Inicia sesión para poder agregar tu propia pregunta.

Opiniones sobre Buscalibre

Ver más opiniones de clientes